[发明专利]一种具有掺杂中间层结构的非晶/微晶硅叠层太阳电池及其制造方法无效
| 申请号: | 201010045857.7 | 申请日: | 2010-01-20 | 
| 公开(公告)号: | CN101777593A | 公开(公告)日: | 2010-07-14 | 
| 发明(设计)人: | 胡跃辉 | 申请(专利权)人: | 景德镇陶瓷学院 | 
| 主分类号: | H01L31/042 | 分类号: | H01L31/042;H01L31/0336;H01L31/20 | 
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 | 
| 地址: | 333001江西*** | 国省代码: | 江西;36 | 
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| 摘要: | 本发明涉及一种具有掺杂中间层结构的非晶/微晶硅叠层太阳电池及其制造方法,采用中间层为n+-ZnO:Al/p+-μc-Si:H薄膜(11)(12)结构的重掺杂n+p+隧道结串联非晶/微晶硅叠层电池顶电池和底电池,制备得到a-Si:H/n+-ZnO:Al/p+-μc-Si:H/μc-Si:H结构叠层电池,该电池利用ZnO:Al的重掺杂n+型半导体特征及其良好的导电性和陷光作用,做成n+-ZnO:Al/p+-μc-Si:H薄膜(11)(12)结构的重掺杂n+p+隧道结,既能解决传统非晶硅叠层电池的光生载流子收集效率问题,又能实现叠层电池内部陷光,提高电池对入射光吸收效率,电池转换效率达到13.6%。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 具有 掺杂 中间层 结构 微晶硅叠层 太阳电池 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
                一种具有掺杂中间层结构的非晶/微晶硅叠层太阳电池,由透明导电膜(1)、非晶硅顶电池窗口层(2)、非晶硅顶电池本征层(3)、非晶硅顶电池n型层(4)、掺杂中间层(5)、微晶硅底电池p型层(6)、微晶硅底电池本征层(7)、微晶硅底电池n型层(8)、背反射层(9)和背电极层(10)串接组成,其特征在于:所述掺杂中间层是n+-ZnO:Al/p+-μc-Si:H隧道结。
            
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                    H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
                
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