[发明专利]一种具有掺杂中间层结构的非晶/微晶硅叠层太阳电池及其制造方法无效

专利信息
申请号: 201010045857.7 申请日: 2010-01-20
公开(公告)号: CN101777593A 公开(公告)日: 2010-07-14
发明(设计)人: 胡跃辉 申请(专利权)人: 景德镇陶瓷学院
主分类号: H01L31/042 分类号: H01L31/042;H01L31/0336;H01L31/20
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 333001江西*** 国省代码: 江西;36
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摘要: 发明涉及一种具有掺杂中间层结构的非晶/微晶硅叠层太阳电池及其制造方法,采用中间层为n+-ZnO:Al/p+-μc-Si:H薄膜(11)(12)结构的重掺杂n+p+隧道结串联非晶/微晶硅叠层电池顶电池和底电池,制备得到a-Si:H/n+-ZnO:Al/p+-μc-Si:H/μc-Si:H结构叠层电池,该电池利用ZnO:Al的重掺杂n+型半导体特征及其良好的导电性和陷光作用,做成n+-ZnO:Al/p+-μc-Si:H薄膜(11)(12)结构的重掺杂n+p+隧道结,既能解决传统非晶硅叠层电池的光生载流子收集效率问题,又能实现叠层电池内部陷光,提高电池对入射光吸收效率,电池转换效率达到13.6%。
搜索关键词: 一种 具有 掺杂 中间层 结构 微晶硅叠层 太阳电池 及其 制造 方法
【主权项】:
一种具有掺杂中间层结构的非晶/微晶硅叠层太阳电池,由透明导电膜(1)、非晶硅顶电池窗口层(2)、非晶硅顶电池本征层(3)、非晶硅顶电池n型层(4)、掺杂中间层(5)、微晶硅底电池p型层(6)、微晶硅底电池本征层(7)、微晶硅底电池n型层(8)、背反射层(9)和背电极层(10)串接组成,其特征在于:所述掺杂中间层是n+-ZnO:Al/p+-μc-Si:H隧道结。
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