[发明专利]一种清洗钝化Ge衬底表面的方法无效
| 申请号： | 201010017126.1 | 申请日： | 2010-01-07 |
| 公开（公告）号： | CN101838812A | 公开（公告）日： | 2010-09-22 |
| 发明（设计）人： | 李学飞;李爱东;龚佑品;翟海法;李辉;吴迪 | 申请（专利权）人： | 南京大学 |
| 主分类号： | C23G1/02 | 分类号： | C23G1/02;H01L21/00 |
| 代理公司： | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人： | 柏尚春 |
| 地址： | 210093*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种清洗钝化Ge衬底表面的方法，首先将锗衬底在丙酮、甲醇中依次超声清洗，然后将锗衬底移到5-20％(重量比)的氢溴酸水溶液中，室温下清洗3-15分钟，接着用高纯氮气吹干，再放入15-50％(重量比)的硫化铵水溶液中，将硫化铵加热到60-80℃，钝化10-20分钟，最后冲洗锗表面并吹干。本发明采用氢溴酸溶液清洗Ge衬底表面，有效地去除了Ge表面的氧化物，然后再采用加热硫化铵溶液钝化Ge衬底表面，形成了稳定的钝化层。之后在钝化过的Ge衬底上沉积氧化铝或者氧化铝/氧化铪纳米叠层或堆栈结构等栅介质薄膜，可以发现明显改进了栅介质薄膜与Ge衬底之间的界面质量，并改善了栅介质薄膜的电学性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 清洗 钝化 ge 衬底 表面 方法 | ||
【主权项】：
一种清洗钝化Ge衬底表面的方法，其特征在于包括以下步骤：首先将锗衬底在丙酮、甲醇中依次超声清洗2-10分钟，去除Ge表面的油污，然后将锗衬底移到5-20％(重量比)的氢溴酸水溶液中，室温下清洗3-15分钟，接着将锗衬底用高纯氮气吹干，吹干后的锗衬底放入15-50％(重量比)的硫化铵水溶液中，将硫化铵加热到60-80℃，钝化10-20分钟，最后用去离子水或乙醇冲洗处理过的锗表面，并用高纯氮气吹干。
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