[发明专利]X射线检测装置

摘要

本发明涉及一种X射线检测装置(1)，包括半导电的X射线检测构件(15)，设置有第一和第二电极接头(22、24)；第一和第二电线(16、17)，分别连接至第一和第二电极接头(22、24)；包括组织等效材料的剂量调节元件(10、10a、10b)，其中，剂量调节元件(10、10a、10b)被布置成由组织等效材料围绕检测构件(15)；以及屏蔽构件(6)，配置成为检测构件(15)提供电屏蔽并保护检测构件(15)不暴露于光。本发明的特征在于第一电极接头(22)被定位成与第二电极接头(24)位于检测构件(15)的同一侧面上。

主权项

X射线检测装置(1)，包括：‑半导电的X射线检测构件(15)，设置有第一和第二电极接头(22、24)；‑第一和第二电线(16、17)，分别连接至所述第一和第二电极接头(22、24)；以及‑包括组织等效材料的剂量调节元件(10、10a、10b)，其中，所述剂量调节元件(10、10a、10b)被布置成由组织等效材料围绕所述检测构件(15)，其中所述第一电极接头(22)被定位成与所述第二电极接头(24)位于所述检测构件(15)的同一侧面上，并且其中所述检测构件(15)为具有两个基本平行的主表面的扁平形状，其中，所述第一和第二电极接头(22、24)被定位在所述主表面之一上，所述装置(1)为细长形状，其中，所述检测构件(15)被布置成使得所述主表面面向所述装置(1)的纵向方向，其中所述装置(1)在靠近所述检测构件(15)的区域中具有密度变化，其中所述密度变化是通过设置围绕所述检测构件(15)的腔室(21)来实现，并且其中所述腔室(21)为环形形状并且沿着所述装置(1)的径向方向围绕所述检测构件(15)。