[发明专利]SiC单晶的制造方法有效
申请号: | 200980159593.3 | 申请日: | 2009-07-17 |
公开(公告)号: | CN102449208A | 公开(公告)日: | 2012-05-09 |
发明(设计)人: | 旦野克典;关章宪;斋藤广明;河合洋一郎 | 申请(专利权)人: | 丰田自动车株式会社 |
主分类号: | C30B29/36 | 分类号: | C30B29/36;C30B15/14;C30B19/04 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 段承恩;常殿国 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种采用熔液法的SiC单晶的制造方法,该方法防止起因于使晶种接触熔液的晶种接触的缺陷的产生,生长降低了缺陷密度的SiC单晶。本发明的方法,通过在石墨坩埚内使SiC晶种接触含有Si的熔液从而在该SiC晶种上生长SiC单晶,该方法的特征在于,在使所述SiC晶种接触后,使所述熔液暂且升温到比该接触时的温度高、且比进行所述生长的温度高的温度。 | ||
搜索关键词: | sic 制造 方法 | ||
【主权项】:
一种SiC单晶的制造方法,通过在石墨坩埚内使SiC晶种接触含有Si的熔液,在该SiC晶种上生长SiC单晶,该制造方法的特征在于,在使所述SiC晶种接触后,使所述溶液暂且升温到比该接触时的温度高、且比进行所述生长的温度高的温度。
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