[发明专利]曝光装置和光掩膜有效
| 申请号： | 200980142622.5 | 申请日： | 2009-10-22 |
| 公开（公告）号： | CN102197340A | 公开（公告）日： | 2011-09-21 |
| 发明（设计）人： | 水村通伸 | 申请（专利权）人： | 株式会社V技术 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02F1/13;G02F1/1368;G03F1/08;H01L21/027 |
| 代理公司： | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人： | 徐申民 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种曝光装置，其为在一个方向上搬送TFT用基板(8)，隔着光掩膜(3)对TFT用基板(8)间歇地照射光源光(24)，对应于形成于所述光掩膜(3)的多个掩膜图案在所述TFT用基板(8)上形成曝光图案的曝光装置，所述光掩膜(3)的一表面形成要求分辨率不同的电极布线图案(14)和信号布线图案(17)，在TFT用基板(8)的搬送方向的前后形成有多个电极布线图案(14)构成的电极布线图案群(16)和多个信号布线图案(17)构成的信号布线图案群(18)。在另一表面对应于要求分辨率高的电极布线图案(14)形成将该图案缩小投影于所述TFT用基板(8)的微透镜(19)，配置该光掩膜(3)使得该微透镜侧(19)侧作为TFT用基板(8)侧。这样，要求分辨率不同的两种曝光图案在同一曝光步骤中同时形成，提高曝光处理效率。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 光掩膜 | ||
【主权项】：
一种曝光装置，其为在一个方向上搬送被曝光体，并隔着光掩膜对所述被曝光体间歇地照射光源光，对应于形成于所述光掩膜的多个掩膜图案在所述被曝光体上形成曝光图案的曝光装置，其特征在于，所述光掩膜，在形成于透明基板的一表面的遮光膜上，并在所述被曝光体的搬送方向的前后形成由要求分辨率不同的两种掩膜图案构成的两个掩膜图案群，在所述透明基板的另一表面形成微透镜，该微透镜对应于所述要求分辨率不同的两种掩膜图案中要求分辨率高的一方的掩膜图案，将该一方的掩膜图案缩小投影于所述被曝光体上，所述光掩膜配置为所述微透镜侧为所述被曝光体侧。
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