[发明专利]栅格以及制造用于选择性地透射电磁辐射特别是用于乳房摄影应用的X射线辐射的栅格的方法有效
| 申请号： | 200980140564.2 | 申请日： | 2009-10-07 |
| 公开（公告）号： | CN102187403A | 公开（公告）日： | 2011-09-14 |
| 发明（设计）人： | G·福格特米尔 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G21K1/02 | 分类号： | G21K1/02;B22F3/105 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 王英;刘炳胜 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明提出一种制造用于选择性地透射电磁辐射，特别是X射线辐射的栅格(1)的方法。该方法包括：提供具有自支撑稳定性的支撑元件(3)，其中该支撑元件(3)由基本不吸收选择性地透射通过该栅格的电磁辐射的材料制成；在该支撑元件(3)的表面上施加金属层(5)；以及用吸收选择性地透射通过该栅格的电磁辐射的材料在该金属层(5)的表面上构建选择性透射结构(7)，其中该透射结构是利用选择性激光烧结构建的。由于该支撑元件(3)提供足够的机械稳定性但并不吸收相应的辐射，在其上利用选择性地烧结构建的选择性透射结构(7)可能不必随后与制造基底分离，从而防止了分离/划片损失，此外其可能在结构上得以保持并且在处理栅格期间不受损害。 | ||
| 搜索关键词： | 栅格 以及 制造 用于 选择性 透射 电磁辐射 特别是 乳房 摄影 应用 射线 辐射 方法 | ||
【主权项】：
一种制造用于选择性地透射电磁辐射的栅格(1)的方法，该方法包括：提供具有自支撑稳定性的支撑元件(3)，其中，所述支撑元件由基本不吸收选择性地透射通过所述栅格的电磁辐射的材料制成；在所述支撑元件的表面上施加金属层(5)；以及用吸收选择性地透射通过所述栅格的电磁辐射的材料在所述金属层(5)的表面上构建选择性透射结构(7)，其中，所述透射结构是利用选择性激光烧结构建的。
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