[发明专利]放射线敏感性树脂组合物及抗蚀剂图案形成方法

摘要

本发明的目的在于，提供一种放射线敏感性树脂组合物及使用有该树脂组合物的抗蚀剂图案形成方法，其中，所述放射线敏感性树脂组合物得到的图案形状良好，灵敏度、析像度、LWR、显影缺陷、图案抗坍塌性等抗蚀剂基本性能优异，且在液浸曝光时显现出可以抑制水纹缺陷及气泡缺陷的充分的抗蚀剂膜表面的防水性。本发明的树脂组合物含有：包含通过酸的作用成为可溶于碱的重复单元且不包含含有氟原子的重复单元的树脂(A)、放射线敏感性产酸剂(B)、包含通过酸的作用成为可溶于碱的重复单元及含有氟原子的重复单元的含氟树脂(C)、内酯化合物(D)，在将树脂(A)设定为100质量份的情况下，内酯化合物(D)的含量为31～200质量份。

主权项

一种放射线敏感性树脂组合物，其特征在于，含有树脂(A)、放射线敏感性产酸剂(B)、含氟树脂(C)和内酯化合物(D)，在将所述树脂(A)设定为100质量份的情况下，所述内酯化合物(D)的含量为31～200质量份，其中，所述树脂(A)包含通过酸的作用成为可溶于碱的重复单元且不包含含有氟原子的重复单元，所述含氟树脂(C)包含通过酸的作用成为可溶于碱的重复单元及含有氟原子的重复单元。