[发明专利]设有间隙状空间的装置和耦合到该装置的合成射流发生器无效
| 申请号： | 200980135587.4 | 申请日： | 2009-09-07 |
| 公开（公告）号： | CN102150485A | 公开（公告）日： | 2011-08-10 |
| 发明（设计）人： | S.E.卡迪克;G.A.吕滕;C.C.S.尼科尔;C.J.M.拉桑塞 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | H05K7/20 | 分类号： | H05K7/20;F21V29/02 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 谢建云;刘鹏 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 装置（1）设有两个壁部（3a；5a）的结构，其限定基本上封闭的间隙状空间（7），该间隙状空间含有气体介质。出于冷却目的，该装置还设有用于生成气体合成射流的合成射流发生器（9），其中该发生器流体耦合到该间隙状空间。 | ||
| 搜索关键词： | 设有 间隙 空间 装置 耦合 合成 射流 发生器 | ||
【主权项】：
一种装置（1），设有‑ 两个壁部（3a；5a）的结构，其限定在所述壁部之间延伸并且含有气体介质的基本上封闭的间隙状空间（7），以及‑ 合成射流发生器（9），其用于生成气体合成射流，该发生器流体耦合到该间隙状空间。
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