[发明专利]纳米结构的光电二极管有效
| 申请号: | 200980134580.0 | 申请日: | 2009-09-04 | 
| 公开(公告)号: | CN102144298A | 公开(公告)日: | 2011-08-03 | 
| 发明(设计)人: | L·萨穆尔森;F·卡帕索;J·奥尔森 | 申请(专利权)人: | 昆南诺股份有限公司 | 
| 主分类号: | H01L31/0352 | 分类号: | H01L31/0352;H01L31/12;H01L31/103;H01L31/105 | 
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 刘春元;蒋骏 | 
| 地址: | 瑞典*** | 国省代码: | 瑞典;SE | 
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| 摘要: | 本发明提供一种光电二极管,其包括:至少部分由第一和第二区域(2)形成的p-i-n或pn结,所述第一和第二区域(2)由具有相反导电类型的半导体材料制成,其中p-i-n或pn结包括光吸收区域(11),用于从所吸收的光产生电荷载子。p-i-n或者pn结的一段包括一个或多个纳米线(7),其被间隔开并且被布置为收集在光吸收区域(11)中产生的电荷载子。在纳米线(7)与所述第一区域(1)和所述第二区域(2)中的一个之间提供的由低掺杂或本征半导体材料制成的至少一个低掺杂区域(10),实现了有源区域(9)的定制的光吸收区域和/或雪崩倍增区域。 | ||
| 搜索关键词: | 纳米 结构 光电二极管 | ||
【主权项】:
                一种光电二极管,包括至少部分由第一区域(1)和第二区域(2)所形成的p‑i‑n或pn结,所述第一区域(1)由具有第一导电类型的半导体材料制成,并且所述第二区域(2)由具有与所述第一导电类型相反的第二导电类型的半导体材料制成,其中,所述p‑i‑n或pn结包括用于从所吸收的光产生电荷载子的光吸收区域(11),其特征在于,所述p‑i‑n或者pn结的一段包括纳米线(7)的阵列,其被间隔开并被布置为传送来自所述光吸收区域(11)的所述电荷载子。
            
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                    H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
                
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H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的





