[发明专利]宽波段反射镜无效
| 申请号： | 200980129874.4 | 申请日： | 2009-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN102112897A | 公开（公告）日： | 2011-06-29 |
| 发明（设计）人： | 金井敏正;樱井武 | 申请（专利权）人： | 日本电气硝子株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/08 | 分类号： | G02B5/08;F24J2/10;G02B5/26;G02B5/28 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明在于得到一种在波长400nm～2500nm的波段内具有高反射率且耐热性以及防刮性优异的宽波段反射镜。该宽波段反射镜(1)用于反射波长400nm～2500nm的波段的光，特征在于：具备使第1高折射率材料层和第1低折射率材料层交替叠层而得到的用于反射波长400nm～2500nm的波段中的靠短波长侧的波段的光的第1反射叠层膜(3)和使第2高折射率材料层和第2低折射率材料层交替叠层而得到的用于反射波长400nm～2500nm的波段中的靠长波长侧的波段的光的第2反射叠层膜(4)，第1反射叠层膜(3)设置于光的入射侧，第2反射叠层膜(4)设置于能够反射从第1反射叠层膜(3)透过的光的位置，且第1高折射率材料层由选自氧化铌、氧化钛、氧化锆、氧化钽、氧化铪、氮化硅、氧化钇和铟锡氧化物中的至少一种材料形成，第1低折射率材料层由选自氧化硅和氟化镁中的至少一种材料形成，第2高折射率材料层由选自硅和锗中的至少一种材料形成，第2低折射率材料层由选自氧化硅和氟化镁中的至少一种材料形成。 | ||
| 搜索关键词： | 波段 反射 | ||
【主权项】：
一种宽波段反射镜，其用于反射波长400nm～2500nm的波段的光，其特征在于：具备使第1高折射率材料层和第1低折射率材料层交替叠层而得到的用于反射波长400nm～2500nm的波段中的靠短波长侧的波段的光的第1反射叠层膜和使第2高折射率材料层和第2低折射率材料层交替叠层而得到的用于反射波长400nm～2500nm的波段中的靠长波长侧的波段的光的第2反射叠层膜，所述第1反射叠层膜设置于光的入射侧，所述第2反射叠层膜设置于能够反射从所述第1反射叠层膜透过的光的位置，且所述第1高折射率材料层由选自氧化铌、氧化钛、氧化锆、氧化钽、氧化铪、氮化硅、氧化钇和铟锡氧化物中的至少一种材料形成，所述第1低折射率材料层由选自氧化硅和氟化镁中的至少一种材料形成，所述第2高折射率材料层由选自硅和锗中的至少一种材料形成，所述第2低折射率材料层由选自氧化硅和氟化镁中的至少一种材料形成。
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