[发明专利]一种新型分子筛组合物EMM-12、其制备方法和使用方法有效
| 申请号： | 200980129452.7 | 申请日： | 2009-07-15 |
| 公开（公告）号： | CN102112397A | 公开（公告）日： | 2011-06-29 |
| 发明（设计）人： | W·J·罗瑟;D·L·多赛特;G·J·肯尼迪;T·约克;T·E·赫尔登 | 申请（专利权）人： | 埃克森美孚化学专利公司 |
| 主分类号： | C01B39/46 | 分类号： | C01B39/46;C01B39/48;B01J29/06 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人： | 宁家成 |
| 地址： | 美国得*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明涉及EMM-12分子筛，呈其合成后原样的形式和煅烧过的形式的该分子筛具有这样的X-射线衍射图，其包括具有在14.17到12.57埃范围内的d-间距最大值的峰，具有在12.1到12.56埃范围内的d-间距最大值的峰，和在约8.85到11.05埃之间的非分立散射，或者在具有在10.14到12.0埃范围内的d-间距最大值的峰和具有在8.66到10.13埃范围内的d-间距最大值的峰之间显示出谷，该谷在最低点的用背景校正的测定强度不小于在连接在10.14到12.0埃范围内的最大值和在8.66到10.13埃范围内的最大值的线上在相同XRD d-间距点的50％。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 新型 分子筛 组合 emm 12 制备 方法 使用方法 | ||
【主权项】：
一种分子筛，呈其合成后原样的形式和煅烧过的形式的该分子筛具有这样的X‑射线衍射图，其包括具有在14.17到12.57埃范围内的d‑间距最大值的峰，具有在12.1到12.56埃范围内的d‑间距最大值的峰，和在约8.85到11.05埃之间的非分立散射，或者在具有在10.14到12.0埃范围内的d‑间距最大值的峰和具有在8.66到10.13埃范围内的d‑间距最大值的峰之间显示出谷，该谷在最低点的用背景校正的测定强度不小于在连接在10.14到12.0埃范围内的最大值和在8.66到10.13埃范围内的最大值的线上在相同XRD d‑间距点的50％。
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