[发明专利]用于表面浮雕凸印的深层结构或浮雕成像有效

专利信息
申请号: 200980127500.9 申请日: 2009-07-09
公开(公告)号: CN102089719A 公开(公告)日: 2011-06-08
发明(设计)人: 路易斯·M··斯波托;迪恩·J··兰达扎索;马特·戴尔斯奇 申请(专利权)人: 伊利诺斯工具制品有限公司
主分类号: G03H1/04 分类号: G03H1/04
代理公司: 上海脱颖律师事务所 31259 代理人: 脱颖;杨宇宙
地址: 美国伊*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 各种深层结构化装饰性图案来源于机器浮雕或者蚀刻。深层图案化或纹理化的蚀刻或浮雕被结合在薄膜凸印衬垫上,以在用于凸印薄膜或材料时模拟该深层图案或纹理的外观。浮雕表面(例如刷饰金属、机器成形图案和纹理化玻璃)的透明模型使用紫外线固化液体和透明基片形成。透明模型中的浮雕复制品通过照射或展开一束或多束激光源穿过所述透明模型而被映射到感光保护膜表面或板上。之后,所述薄膜凸印衬垫用于传统凸印机以形成薄膜凸印。然后,所述凸印薄膜被金属化和层压到基片上,以制造出当暴露在白光中时从不同角度观察到的变化的图案。
搜索关键词: 用于 表面 浮雕 深层 结构 成像
【主权项】:
一种为立体浮雕制作凸印衬垫的方法,所述方法包括以下步骤:准备浮雕表面的透明模型;将感光保护膜板放置在邻近所述透明模型的位置;使光线照射穿透所述透明模型;将所述浮雕表面映射到所述感光保护膜板上;使所述感光保护膜板金属化;并且电铸所述感光保护膜板。
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