[发明专利]涂布组合物和图案形成方法

摘要

本发明的课题在于得到适合于“反式构图”，用于形成覆盖抗蚀图案的膜的理想涂布组合物。为了解决上述课题，使用含有有机聚硅氧烷、以规定的有机溶剂为主成分的溶剂和季铵盐或季盐的光刻用涂布组合物，或者使用含有聚硅烷、以规定的有机溶剂为主成分的溶剂和选自交联剂、季铵盐、季盐和磺酸化合物中的至少1种添加剂的光刻用涂布组合物，上述聚硅烷的末端具有硅烷醇基、或该硅烷醇基和氢原子。

主权项

1.一种光刻用涂布组合物，用于形成覆盖抗蚀图案的膜，含有有机聚硅氧烷、以下述式(1a)、式(1b)或式(1c)所示的有机溶剂为主成分的溶剂和季铵盐或季盐，A¹(OA³)_nOA²    (1a)A⁴OH           (1b)A⁵O(CO)CH₃     (1c)式中，A¹表示氢原子、碳原子数1～6的直链状、支链状或环状的烃基、或乙酰基，A²表示氢原子、甲基或乙酰基，A³表示碳原子数2～4的直链状或支链状的2价烃基，A⁴表示碳原子数3～6的直链状、支链状或环状的烃基，A⁵表示碳原子数1～6的直链状、支链状或环状的烃基，n表示1或2。