[发明专利]制备电绝缘膜的方法及在通孔金属化中的应用有效

专利信息
申请号: 200980125787.1 申请日: 2009-07-01
公开(公告)号: CN102083921A 公开(公告)日: 2011-06-01
发明(设计)人: 文森特·梅费里克;乔斯·冈萨雷斯;多米尼克·祖尔 申请(专利权)人: 埃其玛公司
主分类号: C09D5/44 分类号: C09D5/44;C25D7/12;H01L21/288
代理公司: 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 代理人: 张淑珍;王维玉
地址: 法国*** 国省代码: 法国;FR
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摘要: 发明主要涉及在导电体或半导电体衬底(如硅衬底)的表面制备电绝缘膜的方法。根据本发明,所述方法包括:(a)使所述表面与液体溶液接触,所述液体溶液包含:质子溶剂;至少一种重氮盐;至少一种单体,所述单体可发生链聚合且在所述质子溶剂中可溶;至少一种酸,所述酸的量足以通过将所述溶液的pH值调节至小于7、优选小于2.5,从而使所述重氮盐保持稳定;(b)依照电压-脉冲模式或电流-脉冲模式使所述表面极化,该脉冲模式的持续时间足以形成厚度至少为60nm、优选80-500nm的膜。应用:通孔的金属化,尤其是3D集成电路中通孔的金属化。
搜索关键词: 制备 绝缘 方法 金属化 中的 应用
【主权项】:
在导电体或半电导体衬底如硅衬底表面制备电绝缘膜的方法,其特征在于,所述方法包括:(a)使所述表面与液体溶液接触,所述液体溶液包含:‑质子溶剂;‑至少一种重氮盐;‑至少一种单体,所述单体可发生链聚合且在所述质子溶剂中可溶;‑至少一种酸,所述酸的量足以通过将所述溶液的pH值调节至小于7、优选小于2.5,从而使所述重氮盐保持稳定;(b)依照电压‑脉冲模式或电流‑脉冲模式使所述表面极化,该脉冲模式的持续时间足以形成厚度至少为60nm、优选80‑500nm的膜。
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