[发明专利]作为激酶抑制剂的新型苯基吡嗪酮有效
申请号: | 200980125623.9 | 申请日: | 2009-06-22 |
公开(公告)号: | CN102083819A | 公开(公告)日: | 2011-06-01 |
发明(设计)人: | 诺兰·詹姆斯·德沃丹尼;娄岩;埃里克·布赖恩·肖格伦;迈克尔·索思;扎卡里·凯文·斯威尼 | 申请(专利权)人: | 霍夫曼-拉罗奇有限公司 |
主分类号: | C07D403/10 | 分类号: | C07D403/10;C07D403/14;A61K31/4725;A61P37/00;C07D401/14;C07D413/14;C07D417/14 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 柳春琦 |
地址: | 瑞士*** | 国省代码: | 瑞士;CH |
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摘要: |
本发明提供根据通式I-V的5-苯基-1H-吡嗪-2-酮衍生物,其中,变量Q,R,Y1,Y2,Y2’,Y3,Y4,n和m如本文中所述定义,所述化合物抑制Btk。本文公开的化合物可以用于调节Btk的活性并且治疗与过度Btk活性相关的疾病。该化合物还可以用于治疗与异常B细胞增殖相关的炎性和自身免疫疾病如类风湿性关节炎。还公开了含有式I-V化合物和至少一种载体、稀释剂或赋形剂的组合物。 |
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搜索关键词: | 作为 激酶 抑制剂 新型 苯基 吡嗪酮 | ||
【主权项】:
1.式I,II,III,IV或V的化合物
其中R是H,-R1,-R1-R2-R3,-R1-R3或-R2-R3;R1是芳基,杂芳基,环烷基或杂环烷基,并且任选被一个或多个R1’取代;其中每个R1’独立地为低级烷基,羟基,低级羟烷基,低级烷氧基,卤素,硝基,氨基,环烷基,环烷基低级烷基,杂环烷基,氰基,硝基或低级卤代烷基;R2是-C(=O),-C(=O)O,-(CH2)qC(=O)O,-C(=O)N(R2’)2,-(CH2)q,-O(CH2)q,-CH2C(=O),-CH2C(=O)N(R2’)2或-S(=O)2;其中每个R2’独立地为H,低级烷基,低级烷氧基,低级卤代烷基或低级羟烷基;并且q是1,2或3;R3是H或R4;其中R4是低级烷基,低级杂烷基,低级烷氧基,氨基,芳基,芳基烷基,烷基芳基,杂芳基,烷基杂芳基,杂芳基烷基,环烷基,烷基环烷基,环烷基烷基,杂环烷基,烷基杂环烷基或杂环烷基烷基,并且任选被一个或多个低级烷基,羟基,氧代,低级羟烷基,低级烷氧基,卤素,硝基,氨基,氰基,低级烷基磺酰基或低级卤代烷基取代;Q是CH2,CH(Y’)或NH;其中Y’是卤素,羟基或低级烷基,其中所述低级烷基任选被一个或多个取代基取代,所述取代基选自羟基,低级烷氧基,氨基和卤素;Y1是H或低级烷基;Y2是Y2a或Y2b;其中Y2a是H或卤素;Y2b是低级烷基,其任选被一个或多个Y2b’取代;其中Y2b’是羟基,低级烷氧基或卤素;每个Y2’独立地为Y2’a或Y2’b;其中Y2’a是卤素;Y2’b是低级烷基,其任选被一个或多个Y2’b’取代;其中Y2’b’是羟基,低级烷氧基或卤素;n是0,1,2或3;Y3是卤素或低级烷基,其中所述低级烷基任选被一个或多个取代基取代,所述取代基选自羟基,低级烷氧基,氨基和卤素;m是0或1;Y4是Y4a,Y4b,Y4c或Y4d;其中Y4a是H或卤素;Y4b是任选被一个或多个取代基取代的低级烷基,所述取代基选自低级卤代烷基,卤素,羟基,氨基和低级烷氧基;Y4c是任选被一个或多个取代基取代的低级环烷基,所述取代基选自低级烷基,低级卤代烷基,卤素,羟基,氨基和低级烷氧基;并且Y4d是任选被一个或多个低级烷基取代的氨基;或其药用盐。在一个实施方案中,本发明提供式I的化合物,其中:R是H,-R1,-R1-R2-R3,-R1-R3或-R2-R3;R1是芳基,杂芳基,环烷基或杂环烷基,并且任选被一个或多个R1’取代;其中每个R1’独立地为低级烷基,羟基,低级羟烷基,低级烷氧基,卤素,硝基,氨基,环烷基,杂环烷基,氰基,硝基或低级卤代烷基;R2是-C(=O),-C(=O)O,-C(=O)N(R2’),-(CH2)q,-O(CH2)q,-(CH2)qC(=O)O,-O(CH2)qC(=O)N(R2’),-CH2C(=O)N(R2’)或-S(=O)2;其中R2’是H或低级烷基;并且q是1,2或3;R3是H或R4;其中R4是低级烷基,低级烷氧基,氨基,芳基,芳基烷基,烷基芳基,杂芳基,烷基杂芳基,杂芳基烷基,环烷基,烷基环烷基,环烷基烷基,杂环烷基,烷基杂环烷基或杂环烷基烷基,并且任选被一个或多个低级烷基,羟基,氧代,低级羟烷基,低级烷氧基,卤素,硝基,氨基,氰基,低级烷基磺酰基或低级卤代烷基取代;Q是CH或N;Y1是H或低级烷基;Y2是Y2a或Y2b;其中Y2a是H或卤素;Y2b是低级烷基,其任选被一个或多个Y2b’取代;其中Y2b’是羟基,低级烷氧基或卤素;每个Y2’独立地为Y2’a或Y2’b;其中Y2’a是卤素;Y2’b是低级烷基,其任选被一个或多个Y2’b’取代;其中Y2’b’是羟基,低级烷氧基或卤素;n是0,1,2或3;Y3是卤素或低级烷基,其中所述低级烷基任选被一个或多个取代基取代,所述取代基选自羟基,低级烷氧基,氨基和卤素;m是0或1;Y4是Y4a,Y4b,Y4c或Y4d;其中Y4a是H或卤素;Y4b是任选被一个或多个取代基取代的低级烷基,所述取代基选自低级卤代烷基,卤素,羟基,氨基和低级烷氧基;Y4c是任选被一个或多个取代基取代的低级环烷基,所述取代基选自低级烷基,低级卤代烷基,卤素,羟基,氨基和低级烷氧基;并且Y4d是任选被一个或多个低级烷基取代的氨基;或其药用盐。
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