[发明专利]抗蚀图不溶化树脂组合物及使用其的抗蚀图形成方法

摘要

本发明提供一种抗蚀图不溶化树脂组合物，其是在包含以下工序(1)～(4)的抗蚀图形成方法的工序(2)中使用的抗蚀图不溶化树脂组合物，其包含具有规定的重复单元的树脂和溶剂，所述工序为：工序(1)利用第一正型放射线敏感性树脂组合物，在基板上形成第一抗蚀图；工序(2)在第一层抗蚀图上形成不溶于显影液和第二正型放射线敏感性树脂组合物的不溶化抗蚀图；工序(3)利用第二正型放射线敏感性树脂组合物形成第二抗蚀剂层，并介由掩模进行曝光；工序(4)显影而形成第二抗蚀图。

主权项

1.一种抗蚀图不溶化树脂组合物，在包含以下工序(1)～(4)的抗蚀图形成方法的工序(2)中使用，包含树脂和溶剂，所述树脂包含在侧链具有羟基的重复单元以及由下述通式(1-1)和下述通式(1-2)表示的单体中的至少任一种得到的重复单元，工序(1)：使用第一正型放射线敏感性树脂组合物，在基板上形成第一抗蚀剂层，将所述第一抗蚀剂层介由掩模有选择地进行曝光后，显影而形成第一抗蚀图；工序(2)：在所述第一抗蚀图上涂布抗蚀图不溶化树脂组合物，烘烤或紫外固化后洗涤，将所述第一抗蚀图形成为不溶于显影液和第二正型放射线敏感性树脂组合物的不溶化抗蚀图；工序(3)：使用所述第二正型放射线敏感性树脂组合物，在形成有所述不溶化抗蚀图的基板上形成第二抗蚀剂层，将所述第二抗蚀剂层介由掩模有选择地进行曝光；工序(4)：显影而形成第二抗蚀图，所述通式(1-1)中，R¹表示氢原子、甲基或三氟甲基，A表示亚甲基、亚乙基或亚丙基，R²表示下述通式(2-1)表示的基团或下述通式(2-2)表示的基团；所述通式(1-2)中，R¹表示氢原子、甲基或三氟甲基，R³表示亚甲基或碳原子数为2～6的亚烷基，R⁴表示氢原子、甲基或乙基，n表示0或1，所述通式(2-1)以及(2-2)中，R³⁴互相独立地表示氢原子或者碳原子数为1～10的直链状或支链状的烷基。