[发明专利]检查缺陷的方法及缺陷检查装置有效
申请号: | 200980118003.2 | 申请日: | 2009-05-22 |
公开(公告)号: | CN102037348A | 公开(公告)日: | 2011-04-27 |
发明(设计)人: | 坂井一文;野中一洋 | 申请(专利权)人: | 独立行政法人产业技术综合研究所 |
主分类号: | G01N21/956 | 分类号: | G01N21/956;H01L21/66 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 李伟;王轶 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供检查缺陷的方法和缺陷检查装置。经由偏光镜(5)使来自光源装置(4)的光成为偏光,并对被检查体(W)从倾斜方向入射,以具有配置在暗视野的偏光分离元件(9)的CCD摄像装置(7)对其散射光(SB)进行摄像,对于得到的P偏光成分图像和S偏光成分图像得到成分光强度,求得作为它们的比的偏光方向。根据对被检查体不施加应力的状态和施加了应力的状态下的光散射体的由摄像得到的图像求取成分光强度、偏光方向,与规定的阈值进行对比,由此能够高精度地检测被检查体的内部析出物、空洞缺陷、表面的异物或划痕、表层的裂纹的缺陷,确定缺陷的种类,进行缺陷的分类。 | ||
搜索关键词: | 检查 缺陷 方法 装置 | ||
【主权项】:
一种检查缺陷的方法,其在对被检查体不施加应力的状态和施加应力的状态下,利用偏光镜使能够透入该被检查体内的波长的光形成为偏光的基础上,照射该被检查体的面,检测其散射光,由此检查被检查体的缺陷,该检查缺陷的方法的特征在于,包括以下步骤:在对所述被检查体不施加应力的状态下,在所述被检查体的面上的位置,将成为偏光后的光相对于该面从倾斜方向照射,将由此产生的散射光分离为P偏光的成分光和S偏光的成分光,求取各个成分光的强度以及作为它们的比的偏光方向;在对所述被检查体施加了应力的状态下,在与所述不施加应力的状态下照射光的位置相同的所述被检查体的面上的位置,将成为偏光后的光相对于该面从倾斜方向照射,将由此产生的散射光分离为P偏光的成分光和S偏光的成分光,求取各个成分光的强度以及作为它们的比的偏光方向;将在不对所述被检查体施加应力的状态下求取的各个成分光的强度和偏光方向以及在对所述被检查体施加了应力的状态下求取的各个成分光的强度和偏光方向与规定的阈值进行对比,由此进行缺陷的检测和/或分类。
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