[发明专利]微结构体及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200980114945.3 申请日: 2009-04-28
公开(公告)号: CN102016132A 公开(公告)日: 2011-04-13
发明(设计)人: 田川义治;畠中优介 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: C25D11/04 分类号: C25D11/04
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 陈平
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明公开了具有100μm以上的厚度并且具有规则微孔的结构体。微结构体包括铝或铝合金氧化物膜,铝或铝合金氧化物膜具有从微结构体的底表面延伸至顶表面的圆柱形微孔。所述微孔排列在底表面上以具有至少70%的如通式(1)定义的有序化度,相邻微孔之间的中心到中心的距离为300至600nm并且微孔的轴向长度为至少100μm。
搜索关键词: 微结构 及其 制备 方法
【主权项】:
一种微结构体,所述微结构体包括铝或铝合金氧化物膜,所述铝或铝合金氧化物膜具有从所述微结构体的底表面延伸至顶表面的圆柱形微孔,其中所述微孔排列在所述底表面上以具有至少70%的由通式(1)定义的有序化度:有序化度(%)=B/A×100    通式(1)(其中A表示在测量区域中的微孔的总数;和B表示:在绘制圆使得该圆以特定微孔在垂直于所述特定微孔长轴的横截面中的中心为中心且使得该圆具有与另一个微孔的边缘相内切的最小半径时,所述圆包括除了所述特定微孔以外的六个微孔的中心的情况下,在测量区域中的特定微孔的数目),相邻微孔之间的中心到中心的距离为300至600nm,并且所述微孔的轴向长度为至少100μm。
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