[发明专利]液晶显示装置的制造方法及其制造装置有效
| 申请号： | 200980112848.0 | 申请日： | 2009-04-02 |
| 公开（公告）号： | CN101990651A | 公开（公告）日： | 2011-03-23 |
| 发明（设计）人： | 梶山康一;水村通伸;桥本和重 | 申请（专利权）人： | 株式会社V技术 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337 |
| 代理公司： | 上海市华诚律师事务所 31210 | 代理人： | 徐申民 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明涉及一种液晶显示装置的制造方法，其在对在TFT基板和相对电极基板之间以矩阵状形成多个像素并密封有液晶的液晶显示用基板的所述各像素施加了电场的状态，对所述液晶显示用基板照射规定波长的光，使得所述液晶的分子定向于规定方向，包括：将所述液晶显示用基板和灯体以相互相对的状态浸入到具有规定值以上的电阻率并对所述光具有充分的高透过率的透明液体中的步骤；和在对所述各像素施加了规定量的电场的状态下点亮所述灯体并对所述液晶显示用基板照射规定光量的所述光的步骤。 | ||
| 搜索关键词： | 液晶 显示装置 制造 方法 及其 装置 | ||
【主权项】：
一种液晶显示装置的制造方法，其在对在TFT基板和相对电极基板之间以矩阵状形成有多个像素并密封有液晶的液晶显示用基板的所述各像素施加了电场的状态下，对所述液晶显示用基板照射规定波长的光，使得所述液晶的分子定向于规定方向，其特征在于，包括进行如下步骤：将所述液晶显示用基板和灯体以相互相对的状态浸入到具有规定值以上的电阻率并对所述光具有充分的高透过率的透明液体中的步骤；在对所述各像素施加了规定量的电场的状态下点亮所述灯体，并对所述液晶显示用基板照射规定光量的所述光的步骤。
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