[发明专利]电子材料用Cu-Ni-Si-Co-Cr系合金有效

专利信息
申请号: 200980111916.1 申请日: 2009-03-30
公开(公告)号: CN101983249A 公开(公告)日: 2011-03-02
发明(设计)人: 江良尚彦;桑垣宽 申请(专利权)人: JX日矿日石金属株式会社
主分类号: C22C9/06 分类号: C22C9/06;C22C9/00;C22C9/01;C22C9/02;C22C9/04;C22C9/05;C22C9/10;C22F1/00;C22F1/08
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 蔡晓菡;高旭轶
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的课题在于提供一种通过在Cu-Ni-Co-Si系合金中使Cr添加效果更佳地发挥而使特性飞跃性提高,即高强度、高导电性的科森系合金。该电子材料用铜合金含有Ni:1.0~4.5质量%、Si:0.50~1.2质量%、Co:0.1~2.5质量%、Cr:0.0030~0.3质量%,剩余部分由Cu和不可避免的杂质构成;Ni与Co的合计质量与Si的质量浓度比([Ni+Co]/Si比)为4≤[Ni+Co]/Si≤5,对于分散于材料中的大小为0.1μm~5μm的Cr-Si化合物,其分散粒子中的Cr与Si的原子浓度比为1~5;其分散密度大于1×104个/mm2、且为1×106个/mm2以下。
搜索关键词: 电子 材料 cu ni si co cr 合金
【主权项】:
一种电子材料用铜合金,其含有Ni:1.0~4.5质量%、Si:0.50~1.2质量%、Co:0.1~2.5质量%、Cr:0.003~0.3质量%,其中,Ni与Co的合计质量与Si的质量浓度比([Ni+Co]/Si比)为4≤[Ni+Co]/Si≤5,且剩余部分由Cu和不可避免的杂质构成;对于分散于材料中的大小为0.1μm~5μm的Cr‑Si化合物,其分散粒子中的Cr与Si的原子浓度比为1~5;其分散密度大于1×104个/mm2,且为1×106个/mm2以下。
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