[发明专利]一种等离子刻蚀残留物清洗液有效
| 申请号： | 200980111450.5 | 申请日： | 2009-04-07 |
| 公开（公告）号： | CN101981510A | 公开（公告）日： | 2011-02-23 |
| 发明（设计）人： | 刘兵;彭洪修;于昊 | 申请（专利权）人： | 安集微电子(上海)有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42;H01L21/02;C11D1/83 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 中国上海市浦东张江高*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 一种等离子刻蚀残留物清洗液含有羟胺和/或其衍生物、溶剂、水、螯合剂、含羧基的聚合物与含颜料亲和基团的聚合物。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子 刻蚀 残留物 清洗 | ||
【主权项】：
PCT国内申请，权利要求书已公开。
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