[发明专利]涂层构造及表面处理方法无效
申请号: | 200980110147.3 | 申请日: | 2009-03-18 |
公开(公告)号: | CN102137950A | 公开(公告)日: | 2011-07-27 |
发明(设计)人: | 田中康智;村田裕茂 | 申请(专利权)人: | 株式会社IHI |
主分类号: | C23C4/10 | 分类号: | C23C4/10;F01D5/28;F02C7/00;F23R3/42 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 钟晶 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种涂层构造,在高温部件2的一部分的表面,通过喷涂形成由包含玻璃的氧化物陶瓷所构成的中间层3,在中间层3的表面形成由具有耐热性-耐水蒸气腐蚀性的涂层材料所构成的耐环境覆膜4。该氧化物陶瓷,是在室温至1400℃范围内结晶相不变化或虽然结晶相变化但保持相同体积的多种氧化物陶瓷,所述多种氧化物陶瓷的热膨胀系数,是在构成所述高温部件2的SiC系列陶瓷基复合材料的热膨胀系数和构成耐环境覆膜4的所述涂层材料的热膨胀系数之间。 | ||
搜索关键词: | 涂层 构造 表面 处理 方法 | ||
【主权项】:
一种涂层构造,是在包含水蒸气的高温气体环境下使用且确保由SiC系列陶瓷基复合材料所构成的高温部件的至少一部分的耐热性‑耐水蒸气腐蚀性的涂层构造,其中包括:在所述高温部件的一部分的表面通过喷涂所形成,且由包含玻璃的氧化物陶瓷所构成的中间层;在所述中间层的表面形成,且由具有耐热性‑耐水蒸气腐蚀性的涂层材料所构成的耐环境覆膜,其中,构成所述中间层的所述氧化物陶瓷,是在室温至1400℃范围内结晶相不变化或虽然结晶相变化但保持相同体积的多种氧化物陶瓷,所述多种氧化物陶瓷的热膨胀系数,是在构成所述高温部件的所述SiC系列陶瓷基复合材料的热膨胀系数和构成所述耐环境覆膜的所述涂层材料的热膨胀系数之间。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
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C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
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