[发明专利]用于光学扫描设备的二维辐射斑阵列

摘要

本发明涉及一种光学扫描设备(10)，其包括：斑生成器(20)，用于在格点P_mn＝mT₁+nT₂(m＝1至L₁，n＝1至L₂)处生成二维辐射斑阵列(8)，其中，T₁是第一格矢量，T₂是第二格矢量；以及扫描装置，用于沿扫描方向穿过辐射斑阵列扫描样品(26)，使得辐射斑相对于样品示踪出基本上等距的线(81、82、83)。根据本发明，扫描方向和第一格矢量T₁之间的角γ最多与扫描方向和第二格矢量T₂之间的角一样大，并且比L₁/L₂小于0.6。根据优选的实施例，L₁与Λ的不同小于1.0，或L₁等于Λ，容差为10％，A由定义，D是格对角线的长度，R是分辨率。本发明还涉及一种光学扫描方法。

主权项

一种光学扫描设备(10)，包括：‑斑生成器(20)，其用于在格点Pmn＝mT1+nT2(m＝1至L1，n＝1至L2)处生成二维辐射斑阵列(8)，其中，T1是第一格矢量，T2是第二格矢量；以及‑扫描装置，其用于沿扫描方向穿过所述辐射斑阵列扫描样品(26)，使得所述辐射斑相对于所述样品示踪出基本上等距的线(81、82、83)，其中，所述扫描方向和所述第一格矢量T1之间的角γ最多与所述扫描方向和所述第二格矢量T2之间的角一样大，并且比L1/L2小于0.6。