[发明专利]制造中空结构件的方法、用于生产中空结构件的衬底和制造中空结构件的设备有效

专利信息
申请号: 200980108434.0 申请日: 2009-03-10
公开(公告)号: CN101970203A 公开(公告)日: 2011-02-09
发明(设计)人: 金松俊宏;妹尾晋哉 申请(专利权)人: 株式会社理光
主分类号: B29C44/00 分类号: B29C44/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 王冉
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 提供了一种制造中空结构件的方法,该方法适于精确制造中空部的节距在30微米以下的中空结构件。制造中空结构件的方法是通过在构成制造中空结构件的衬底(5)的材料的一部分中使用气体可渗透材料,高压气体通过事先在高压条件下注入气体可渗透材料中予以封装;在减压条件下在表面上形成塑性变形膜(10);以及在防止塑性变形材料进入凹陷(5b)的同时,通过将封装在气体可渗透材料中的高压气体排出到每个凹陷(5b)中来膨胀和牵拉塑性变形膜(10),由此制造中空结构件。
搜索关键词: 制造 中空 结构件 方法 用于 生产 衬底 设备
【主权项】:
一种利用用于中空结构件生产的衬底制造中空结构件的方法,其中所述衬底具有:表面,利用塑性变形材料在该表面上形成塑性变形膜;以及多个凹陷,所述凹陷朝向所述表面开口并且在其中存放气体,用于通过排出气体来膨胀和牵拉所述塑性变形膜,形成多个中空部,其特征在于:通过在构成用于中空结构件生产的衬底的材料的一部分中利用气体可渗透材料,高压气体通过事先在高压状态下注入到气体可渗透材料中而被封装;在于塑性变形膜在减压条件下形成在所述表面上;并且在于在防止塑性变形膜进入凹陷的同时,被封装在气体可渗透材料中的高压气体被排出到每个凹陷中,使得塑性变形膜被每个凹陷中的高压气体膨胀并牵拉,由此制造中空结构件。
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