[发明专利]光学显示装置制造系统及光学显示装置制造方法有效

专利信息
申请号: 200980108296.6 申请日: 2009-04-10
公开(公告)号: CN101965605A 公开(公告)日: 2011-02-02
发明(设计)人: 北田和生;由良友和;小盐智;中园拓矢 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: G09F9/00 分类号: G09F9/00;G02F1/13;G02F1/1335
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 李贵亮
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种能够更好地进行缺点检查的光学显示装置制造系统及光学显示装置制造方法。根据由检查装置(30)进行的对被贴合了光学薄膜的光学显示装置的检查结果,修正由缺点检查装置(14、24)进行的被贴合到光学显示单元之前的光学薄膜的检查中的缺点的检测条件,将包含由缺点检查装置(14、24)根据该修正后的检测条件检测出的缺点的光学薄膜排除。由此,由于能够按照之后由检查装置(30)进行的缺点检查的基准,调整由缺点检查装置(14、24)进行的缺点检查的基准,所以可以更好地进行缺点检查,能够提高光学薄膜的成品率。
搜索关键词: 光学 显示装置 制造 系统 方法
【主权项】:
一种光学显示装置制造系统,用于通过从光学薄膜被卷绕成辊状而形成的辊状卷料送出所述光学薄膜,将其切断为规定尺寸并贴合到光学显示单元上,来制造光学显示装置,其特征在于,具备:对贴合到所述光学显示单元之前的所述光学薄膜进行检查,来检测缺点的光学薄膜检查机构;对贴合了所述光学薄膜的所述光学显示装置进行检查,来检测缺点的光学显示装置检查机构;根据所述光学显示装置检查机构的检查结果,修正所述光学薄膜检查机构对所述光学薄膜检查缺点的检测条件的检测条件修正机构;和根据修正后的所述检测条件,将包含由所述光学薄膜检查机构检测到的缺点的光学薄膜排除的排除机构。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日东电工株式会社,未经日东电工株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200980108296.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top