[发明专利]软磁性材料及其制造方法无效
| 申请号： | 200980103345.7 | 申请日： | 2009-01-08 |
| 公开（公告）号： | CN102067251A | 公开（公告）日： | 2011-05-18 |
| 发明（设计）人： | 相马慎吾;平贺一仁;平野芳树 | 申请（专利权）人： | 本田技研工业株式会社 |
| 主分类号： | H01F1/24 | 分类号： | H01F1/24;B22F1/02;B22F3/00;H01F41/02 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 丁香兰;庞东成 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 在含有铁和氧的软磁性粉末的表面形成由金属或者半金属构成的覆膜(步骤S102)。这种情况下，在覆膜的表面形成含硅膜是合适的。接着，通过对软磁性粉末进行挤压成型来制作成型体(步骤S103)。由于覆膜是延展性较大的金属膜或者半金属膜，因而通过挤压成型制作的成型体的密度升高，并且防止覆膜出现裂纹等损伤。如上述那样形成含硅膜的情况也相同。接下来，通过对成型体进行热处理，来对构成成型体的软磁性粉末的表面和界面进行氧化，从而形成氧化膜(步骤S104)。利用这样的氧化膜防止涡电流损失的发生。其结果，能够实现生产率的提高和磁特性的提高。 | ||
| 搜索关键词： | 磁性材料 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种软磁性材料，该软磁性材料是通过软磁性粉末的成型而制作出的，所述软磁性粉末含有铁且在表面形成有绝缘覆膜，其特征在于，所述绝缘覆膜是由以金属与硅形成的氧化物构成的绝缘覆膜，或者是由以半金属与硅形成的氧化物构成的绝缘覆膜。
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