[发明专利]超精细图案化掩模、其生产方法以及将其用于形成超精细图案的方法

摘要

本发明提供了一种超精细图案形成方法，其可以简便地以高规模化生产率来生产超精细图案。该方法中，在待处理薄膜上形成第一凸起图案；在凸起图案的侧面上形成由含硅氮烷键的树脂组合物形成的隔体；通过使用隔体或设置在隔体周围的树脂层作为掩模来形成超精细图案。该隔体通过仅在第一凸起图案周围的部分固化均匀涂覆的树脂组合物来形成。因此，可以形成与常规图案形成方法相比更加精细的图案。

主权项

一种形成超精细图案化掩模的方法，包括步骤：制备基体衬底，在其上层合待处理薄膜；在待处理薄膜上形成具有凸起的第一凸起图案；用包含树脂的树脂组合物涂覆第一凸起图案，该树脂包含的重复单元各自具有一个硅氮烷键；加热已经进行涂覆步骤的基体衬底，以固化存在于与凸起邻近区域的树脂组合物；冲洗已经进行固化步骤的基体衬底，以除去未固化的树脂组合物；除去凸起上表面上固化的树脂组合物部分，以在凸起的侧面形成与第一凸起图案材料不同的材料层；以及除去该凸起，以形成不同材料的超精细第二凸起图案化掩模。