[发明专利]真空内保护衬层无效
| 申请号： | 200980102279.1 | 申请日： | 2009-01-16 |
| 公开（公告）号： | CN101971286A | 公开（公告）日： | 2011-02-09 |
| 发明（设计）人： | 留德米拉·史东;朱利安·G·布雷克;岱尔·K·史东;罗·S·希瑞史盖 | 申请（专利权）人： | 瓦里安半导体设备公司 |
| 主分类号： | H01J37/30 | 分类号： | H01J37/30;H01L21/26 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 臧建明 |
| 地址： | 美国麻*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本设备包括配置于真空室的界面的衬层。一构件位于真空式内以定义该界面。该衬层配置成用以保护工件免受污染，或是用以避免因原子或离子植入界面所引起的界面产生气泡。在一些实施例中，衬层可由真空室中的界面丢弃以及移除并以新的衬层取代。在一些实施例中，此衬层可为具有粗糙面的聚合物，以碳为基质或是由纳米管构成。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 保护 | ||
【主权项】：
一种设备，包括：一离子产生器，用以产生多个离子；一真空室；一构件，位于该真空室内并定义一界面；一工件；一台板，用以支撑该工件，以使该工件接受该些离子处理；以及一衬层，配置于该界面上，以保护该工件免受污染，其中该衬层具有一粗糙面，且该衬层由包括卡普通、聚醚醚酮、聚四氟乙烯、全氟烷氧、全氟烷基乙烯基醚、聚对二甲苯、维斯佩及优皮勒斯的组群中所选择。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于瓦里安半导体设备公司，未经瓦里安半导体设备公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200980102279.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种玉米降压肽的提取方法
- 下一篇：一株桉树内生菌及其用途
