[实用新型]钕铁硼气流磨粒度分布改善装置有效
| 申请号： | 200920103168.X | 申请日： | 2009-06-02 |
| 公开（公告）号： | CN201510918U | 公开（公告）日： | 2010-06-23 |
| 发明（设计）人： | 贾建华;刘兴民;荆计生;梁永新;贾建伟;马跃华;吴定宇;周唤勇 | 申请（专利权）人： | 山西京宇天成科技有限公司 |
| 主分类号： | B02C19/06 | 分类号： | B02C19/06 |
| 代理公司： | 太原同圆知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 14107 | 代理人： | 王金锁 |
| 地址： | 045201 山西省*** | 国省代码： | 山西;14 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种钕铁硼气流磨粒度分布改善装置，它包括磨室(1)、右管(2)、主管(3)、左管(4)、右阀(5)、底阀(6)和左阀(7)，在磨室(1)的两侧面分别设置有左管(4)、右管(2)，左管(4)上设置有左阀(7)，右管(2)上设置有右阀(5)，在磨室的正下部设置有主管(3)，在主管(3)上设置有底阀(6)。本实用新型通过对气流磨进行改造，使D10提高到1.9μm-2.2μm，使D90减少到9μm-11μm，改善了粒度分布，从而改善磁体的微观组织与磁体内在品质的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 钕铁硼 气流磨 粒度 分布 改善 装置 | ||
【主权项】：
一种钕铁硼气流磨粒度分布改善装置，它包括磨室(1)、右管(2)、主管(3)、左管(4)、右阀(5)、底阀(6)和左阀(7)，其特征是在磨室(1)的两侧面分别设置有左管(4)和右管(2)，左管(4)上设置有左阀(7)，右管(2)上设置有右阀(5)，在磨室的正下部设置有主管(3)，在主管(3)上设置有底阀(6)。
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