[实用新型]数控整流子下刻机走刀机构无效

专利信息
申请号: 200920065518.8 申请日: 2009-08-10
公开(公告)号: CN201466907U 公开(公告)日: 2010-05-12
发明(设计)人: 杨建国;胡茂春 申请(专利权)人: 长沙力捷自动化设备有限公司
主分类号: H02K15/00 分类号: H02K15/00
代理公司: 长沙永星专利商标事务所 43001 代理人: 周咏;陈书诚
地址: 410205 *** 国省代码: 湖南;43
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 实用新型公开了一种数控整流子下刻机走刀机构,包括驱动气缸,该气缸为阻尼气缸。本实用新型提供的这种数控整流子下刻机走刀机构,将现有技术中的用于驱动的普通气缸设计为阻尼汽缸,由于阻尼汽缸自身的阻尼缓冲作用,使得汽缸起动停止时都能平稳地进行,从而带动装夹在工装上的被加工电枢均匀的来回运动,致使电枢的云母槽得到均匀下刻,从而保证了产品质量。
搜索关键词: 数控 整流子 下刻机走刀 机构
【主权项】:
一种数控整流子下刻机走刀机构,包括驱动气缸(1),其特征在于该气缸为阻尼气缸。
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