[实用新型]发电机励磁装置用单电阻达林顿管无效
| 申请号: | 200920045884.7 | 申请日: | 2009-05-07 |
| 公开(公告)号: | CN201402808Y | 公开(公告)日: | 2010-02-10 |
| 发明(设计)人: | 龚利汀;钱晓平;龚利贞 | 申请(专利权)人: | 无锡固电半导体股份有限公司 |
| 主分类号: | H01L27/07 | 分类号: | H01L27/07 |
| 代理公司: | 无锡市大为专利商标事务所 | 代理人: | 曹祖良 |
| 地址: | 214028江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | 本实用新型属于半导体晶体管技术领域,具体地说是一种发电机励磁装置用单电阻达林顿管。按照本实用新型提供的技术方案,在N+衬底扩散层的下面有背面金属化银层,在N+衬底扩散层的上面有N-单晶材料层,并在N-单晶材料层的上面形成前级晶体管的基区与后级晶体管的基区,在所述前级晶体管的基区与后级晶体管的基区的上面有二氧化硅层;在前级晶体管的基区内形成前级晶体管的发射区,在后级晶体管的基区内形成后级晶体管的发射区;所述金属化银层形成前级晶体管和后级晶体管共接的集电极。本实用新型可应用于发电机关键部位励磁装置的控制模块中。该产品耗散功率大,二次击穿耐量高,耐压高;集电极电流大,饱和压降低,抗烧性强,可靠性好。 | ||
| 搜索关键词: | 发电机 装置 电阻 达林顿管 | ||
【主权项】:
1、发电机励磁装置用单电阻达林顿管,其特征是:在N+衬底扩散层(2)的下面有背面金属化银层(1),在N+衬底扩散层(2)的上面有N-单晶材料层(3),并在N-单晶材料层(3)的上面形成前级晶体管(T1)的基区(5)与后级晶体管(T2)的基区(7),在所述前级晶体管(T1)的基区(5)与后级晶体管(T2)的基区(7)的上面有二氧化硅层(8);在前级晶体管(T1)的基区(5)内形成前级晶体管(T1)的发射区(12),在后级晶体管(T2)的基区(7)内形成后级晶体管(T2)的发射区(13);所述金属化银层(1)形成前级晶体管(T1)和后级晶体管(T2)共接的集电极(C);刻蚀所述二氧化硅层(8),在前级晶体管(T1)的基区(5)与后级晶体管(T2)的基区(7)上形成若干刻蚀区;并在其中的第一个刻蚀区覆盖前级晶体管(T1)的基极铝层(9),所述前级晶体管(T1)的基极铝层(9)形成前级晶体管(T1)的基极(B);在第二刻蚀区通过磷扩散形成前级晶体管(T1)的发射区,在前级晶体管(T1)的发射区氧化层的电极刻蚀孔上再覆盖前级晶体管(T1)的发射极电极铝层(10),所述前级晶体管(T1)的发射极连接铝层(10)形成前级晶体管(T1)的发射极;在第三刻蚀区覆盖后级晶体管(T2)的基极连接铝层(10’),所述后级晶体管(T2)的基极连接铝层(10’)形成后级晶体管(T2)的基极;所述前级晶体管(T1)的发射极连接铝层(10)与后级晶体管(T2)的基极连接铝层(10’)在二氧化硅层(8)的表面上连成一体;在第四刻蚀区通过磷扩散形成后级晶体管(T2)的发射区,在此发射区的氧化层的电极刻蚀孔上再覆盖后级晶体管(T2)的发射极电极铝层(11),所述后级晶体管(T2)的铝层(11)形成后级晶体管(T2)的发射极(E);在前级晶体管(T1)与后级晶体管(T2)间设置V型隔离槽(6);在前级晶体管(T1)的基区(5)内对应于前级晶体管(T1)的发射极连接铝层(10)所在的部位设置前级晶体管(T1)的发射区(12);在后级晶体管(T2)的基区(7)内对应于后级晶体管(T2)的连接铝层(11)所在的部位设置后级晶体管(T2)的发射区(13),并在后级晶体管(T2)的基区(7)与发射区(13)之间的部位形成电阻(R)。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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