[实用新型]一种SiC体单晶的生长装置无效
申请号: | 200920033023.7 | 申请日: | 2009-05-11 |
公开(公告)号: | CN201420112Y | 公开(公告)日: | 2010-03-10 |
发明(设计)人: | 陈治明;李留臣 | 申请(专利权)人: | 西安理工大学 |
主分类号: | C30B23/00 | 分类号: | C30B23/00;C30B29/36 |
代理公司: | 西安弘理专利事务所 | 代理人: | 罗 笛 |
地址: | 710048*** | 国省代码: | 陕西;61 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开了一种SiC体单晶的生长装置,包括工作室,工作室内竖直设置有托杆,托杆的下端自工作室的底部伸出,托杆的上端固接有石墨坩埚,石墨坩埚的内腔加工有凹台,石墨坩埚的上面固接有SiC籽晶座,SiC籽晶座加工有凸台,该凸台端面与石墨坩埚内腔凹台的底面之间设置有接口,石墨坩埚与SiC籽晶座的外侧包裹有保温层,工作室与抽真空装置相连接。本实用新型生长装置结构简单、装料方便,抽真空时产生的SiC粉粒不堆积于SiC籽晶附近,避免了SiC粉粒对SiC体单晶生长的影响,满足了高品质SiC体单晶生长的要求。 | ||
搜索关键词: | 一种 sic 体单晶 生长 装置 | ||
【主权项】:
1.一种SiC体单晶的生长装置,其特征在于,包括工作室(6),工作室(6)内竖直设置有托杆(12),托杆(12)的下端自工作室(6)的底部伸出,托杆(12)的上端固接有石墨坩埚(1),石墨坩埚(1)上端面的内腔加工有凹台,石墨坩埚(1)的上面固接有SiC籽晶座(5),SiC籽晶座(5)的下端面加工有凸台,SiC籽晶座(5)的凸台端面与石墨坩埚(1)内腔凹台的底面之间设置有接口(2),石墨坩埚(1)与SiC籽晶座(5)的外侧包裹有保温层(11),工作室(6)与抽真空装置相连接。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安理工大学,未经西安理工大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200920033023.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:行星卷绕机构
- 下一篇:较低杂散电感的功率模块