[发明专利]生产气敏基底的方法和系统有效
| 申请号： | 200911000014.9 | 申请日： | 2009-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN101799426A | 公开（公告）日： | 2010-08-11 |
| 发明（设计）人： | A·D·麦布拉迪;N·里韦拉;P·霍根;R·S·法齐奥;山口孝;山口玉实 | 申请（专利权）人： | 霍尼韦尔国际公司 |
| 主分类号： | G01N21/78 | 分类号： | G01N21/78 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 曲宝壮;李家麟 |
| 地址： | 美国新*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 生产气敏基底的方法和系统，包括：在生产过程中通过分配(708)一种或者多种气敏材料到基底(102，102a-102c)上并且干燥(712)基底上的一种或多种气敏材料形成气敏基底。还包括根据与基底和/或生产过程相关的一个或者多个传感器测量结果调节(720)生产过程，包括调节(706，710，716)基底周围的空气，使其具有一个或者多个指定的特性，根据所述传感器测量结果调节(720)该指定的特性。所述传感器测量结果包括基底的一个或者多个水分含量测量结果。调节生产过程还包括调节(720)基底张力。一种或者多种气敏材料例如沿着顺着基底纵向延伸的多个轨迹沉积到基底上的多个区域(202-206，302-306，402-408，510a-510d)。 | ||
| 搜索关键词： | 生产 基底 方法 系统 | ||
【主权项】：
一种方法，包括：在生产过程期间通过分配(708)一种或者多种气敏材料到基底上并干燥(712)所述基底上的所述一种或者多种气敏材料来形成气敏基底(102，102a-102c)；和根据与基底和生产过程中的至少一个相关联的一个或者多个传感器测量结果调整(720)生产过程。
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