[发明专利]真空镀膜装置

摘要

一种真空镀膜装置，其用于对待镀膜基板进行镀膜。真空镀膜装置包括反应腔、盖体、间隔部、承载组件、第一开合部及第二开合部。反应腔开设一通孔。盖体活动设置在反应腔上用以暴露或密封通孔。间隔部设置在反应腔内将反应腔分为第一收容腔及第二收容腔。间隔部开设一与通孔相对应的贯穿开口。承载组件可转动的设置在开口内以承载并带动基板翻转。第一开合部与第二开合部分别可移动的设置在第一收容腔与第二收容腔内用以暴露或密封开口。镀膜装置通过设置间隔部将反应腔分为第一收容腔及第二收容腔，及在开口内设置可转动的承载组件，从而分别在第一收容腔及第二收容腔内对基板进行不同膜层的镀膜，无需将基板移出反应腔，操作简单，镀膜效果较好。

主权项

一种真空镀膜装置，其用于对一个待镀膜基板进行镀膜，所述镀膜装置包括一个反应腔及一个盖体，所述待镀膜基板收容于所述反应腔内，所述反应腔开设一个通孔，所述盖体活动设置在所述反应腔并用以暴露或密封所述通孔，其特征在于，所述镀膜装置还包括一个间隔部、一个承载组件、一个第一开合部及一个第二开合部，所述间隔部设置在所述反应腔内将所述反应腔分为一个第一收容腔及一个第二收容腔，所述间隔部开设一个与所述通孔相对应的贯穿开口，所述承载组件可转动的设置在所述开口内以承载并带动所述待镀膜基板在所述开口内转动，所述第一开合部可移动的设置在所述第一收容腔内用以暴露或密封所述开口，所述第二开合部可移动的设置所述第二收容腔内用以暴露或密封所述开口。