[发明专利]一种薄膜制备装置无效
| 申请号： | 200910300041.1 | 申请日： | 2009-01-05 |
| 公开（公告）号： | CN101768730A | 公开（公告）日： | 2010-07-07 |
| 发明（设计）人： | 裴绍凯 | 申请（专利权）人： | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/30 | 分类号： | C23C16/30 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518109广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种薄膜制备系统包括前驱体溶液制备装置和薄膜沉积装置。所述前驱体溶液制备装置包括储液罐、汽化装置和吸收塔。所述储液罐和所述汽化装置均与所述吸收塔相连通。所述储液罐用于储存镀膜溶液并向吸收塔提供镀膜溶液。所述汽化装置用于汽化掺杂剂溶液并向吸收塔提供汽化后的掺杂剂溶液。所述吸收塔用于使镀膜溶液吸收汽化后的掺杂剂溶液从而得到前驱体溶液。所述薄膜沉积装置用于将前驱体溶液导至待镀膜的基板表面以形成薄膜。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 薄膜 制备 装置 | ||
【主权项】：
一种薄膜制备系统，包括前驱体溶液制备装置和薄膜沉积装置，所述前驱体溶液制备装置用于制备前驱体溶液，所述薄膜沉积装置用于将前驱体溶液导至待镀膜的基板表面以形成薄膜，其特征在于，所述前驱体溶液制备装置包括储液罐、汽化装置和吸收塔，所述储液罐和所述汽化装置均与所述吸收塔相连通，所述储液罐用于储存镀膜溶液并向吸收塔提供镀膜溶液，所述汽化装置用于汽化掺杂剂溶液并向吸收塔提供汽化后的掺杂剂溶液，所述吸收塔用于使镀膜溶液吸收汽化后的掺杂剂溶液从而得到前驱体溶液。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司，未经鸿富锦精密工业（深圳）有限公司;鸿海精密工业股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200910300041.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
