[发明专利]相位差膜及其用途以及新型改性聚合物有效

专利信息
申请号: 200910265620.7 申请日: 2005-06-14
公开(公告)号: CN101819292A 公开(公告)日: 2010-09-01
发明(设计)人: 梅本清司;大森裕;坂本亨枝;上条卓史;宫崎顺三 申请(专利权)人: 日东电工株式会社
主分类号: G02B5/30 分类号: G02B5/30;G02F1/13363;C08F16/06;C08F8/10
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 朱丹
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供为了实现逆分散而不需要选择多个单体、聚合物,并且不存在拉伸处理中的玻璃化转变温度等问题,成为新型逆分散相位差膜的原料的改性聚合物。使具有多元醇骨架作为主链的聚合物与芳香族羧酸卤化物等修饰用化合物反应。通过上述反应能够制备芳香族羰基等化学基团结合到多元醇骨架侧链的氧原子上的改性聚合物。例如,作为上述聚合物,可以使用聚乙烯醇,作为上述修饰用化合物,可以使用苯甲酰氯,作为上述化学基团,可以列举苯甲酰基。此外,如果将该改性聚合物成膜并实施拉伸处理,可以得到显示逆分散的波长分散特性的相位差膜。
搜索关键词: 相位差 及其 用途 以及 新型 改性 聚合物
【主权项】:
1.一种相位差薄膜,其特征在于,所述相位差薄膜由含有下述的改性聚合物的薄膜构成,该改性聚合物具有聚乙烯醇骨架或聚乙烯乙烯醇骨架作为主链,且该改性聚合物具有下述式(5)~(7)的任一个所示的不饱和脂肪族羰基结合于上述聚乙烯醇骨架或聚乙烯乙烯醇骨架的侧链的氧原子的部分,在上述式(5)~(7)中,R13、R14和R15为氢原子、卤素原子、羟基、甲基、乙基、卤代甲基、卤代乙基或硝基(-NO2)。
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