[发明专利]一种在钛合金表面磁控溅射TiMo薄膜的制备方法

摘要

本发明公开了一种在钛合金表面磁控溅射TiMo薄膜的制备方法，其特点是所述制备方法有溅射前处理、安装基片和溅射成膜等步骤。与现有技术相比，本发明通过磁控溅射工艺实现了在钛合金表面制备Ti-Mo薄膜的目的，通过工艺条件控制可获得厚度1-50μm的薄膜，并且薄膜致密性好，与基体结合力良好，厚度可控，可以在大面积基片上获得厚度均匀的薄膜。本发明制备的涂层在600℃高温时仍然具有很好的抗盐雾腐蚀能力，并且所用的制备方法可以保证批量生产条件下，制备出高质量产品。

主权项

一种在钛合金表面磁控溅射TiMo薄膜的制备方法，其特征在于有下列步骤：：步骤1：溅射前处理待镀工件经砂纸打磨、抛光，用丙酮超声波清洗10分钟，再用超声波去离子水清洗5分钟，最后用无水乙醇清洗烘干，备用；步骤2：装炉将清洗好的工件安装在H‑MFD200型高真空多功能薄膜沉积系统真空室内试样台上，确保固定，以防脱落；步骤3：溅射TiMo层1)将金属Ti靶、Mo靶置于直流阴极上；2)关闭真空室，抽真空至1.5×102Pa；3)真空度达到1.5×102Pa之后，通入Ar气；调节质量流量计的流量，使气压调节到2～5Pa范围内；4)离子轰击：打开负偏压电源，将负偏压调至500～1000V范围，对工件进行离子轰击辉光清洗，同时启动加热器对待镀工件进行加热；5)离子清洗完毕后，在150～200℃、0.2～0.4KV电压、0.1～0.75A电流下进行反应磁控溅射，控制溅射时间4～8分钟；6)溅射完毕即得到TiMo薄膜。