[发明专利]一种计算磁共振成像RF线圈信噪比的方法无效

专利信息
申请号: 200910241368.6 申请日: 2009-12-07
公开(公告)号: CN101794329A 公开(公告)日: 2010-08-04
发明(设计)人: 李烨;蒋晓华 申请(专利权)人: 清华大学
主分类号: G06F17/50 分类号: G06F17/50
代理公司: 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 代理人: 朱琨
地址: 100084 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 一种计算磁共振成像RF线圈信噪比的方法,属于磁共振成像技术领域,其特征在于,先建立RF线圈及负载的尺寸及材料参数模型,列写电流密度满足的积分方程,计算导体的趋肤深度及表面电阻率,据此对导体进行剖分,将积分方程转化为代数方程,通过求解代数方程得到导体内电流密度分布,再用毕奥萨法尔积分算出负载内磁感应强度分布,利用矢量位得到负载内电场强度分布,由此计算RF线圈的线圈自身电阻、负载涡流损耗等效电阻和信噪比。本发明提高了导体自身电阻、负载涡流损耗以及空间电磁场分布的计算效率。
搜索关键词: 一种 计算 磁共振 成像 rf 线圈 方法
【主权项】:
1.一种计算磁共振成像RF线圈信噪比的方法,其特征在于,所述方法是在计算机中依次按以下步骤实现的:步骤(1),计算机初始化:输入RF线圈的几何尺寸,线圈导体的横截面的几何尺寸,导体材料的电导率、磁导率,通入线圈中的射频电流的幅值和频率,在有载时还需要输入负载的几何尺寸、位置及电导率、磁导率;写入RF线圈导体内电流密度J应满足的积分方程其中J为电流密度,σ为导体电导率,ω为共振角频率,μ为导体的磁导率,r为场点与源点距离,为标量位;所述源点是指电流源密度的点,场点是指计算电场强度的点;在二维轴对称条件下,以对称轴为z轴,半径方向为ρ轴,建立极坐标系,有其中Jα为电流密度,f为共振频率,θ为导体周向单位矢量,S为导体横截面;令g(r,r)=02π1|r-r|,]]>利用椭圆积分,得到g(r,r)=02π1|r-r|=4(z-z)2+(ρ+ρ)2×F(π2,4ρρ(z-z)2+(ρ+ρ)2)]]>其中F为第二类椭圆积分,r(z,ρ)、r’(z’,ρ’)分别为场点与源点的坐标;步骤(2),按下式计算所述导体的趋肤深度dsds=1πσfμ]]>其中,f是所述射频电流的频率,μ是所述导体材料的磁导率,σ是所述导体材料的电导率;步骤(3),按下式计算所述导体的表面电阻率K:K=12πfμσsinh(h/ds)-sin(h/ds)cosh(h/ds)+cos(h/ds)]]>其中h为导体厚度;步骤(4),在导体宽度方向划分网格尺寸为所述趋肤深度的0.5-1,把所述积分方程转化为下述代数方程,其中某i个网格内的电流密度Ji为:Ji=-jσμfΣnSnJng(ri,rn)dρndzn-J0]]>iJiΔSn=I其中ri(zi,ρi)为第i个网格中心点即场点的坐标;rn’(zn’,ρn’)为第n个网格内点坐标,即源点坐标;ΔSn为网格面积;再将所述代数方程化为矩阵形式:[A][J]=[Im]其中[J]为网格电流密度矩阵;对于单位电流激励,[Im]=[0,0,...,0,1];系数矩阵A为ai,i=1+jσμfSng(ri,ri)dρidzi]]>ai,j=jσμfSng(ri,rj)dρjdzj]]>ai,N+1=aN+1,j=1aN+1,N+1=0其中i,j=1…N;步骤(5),求解步骤(4)中的所述矩阵方程得到导体内的电流密度分布[J];步骤(6),根据步骤(5)得到的电流密度分布按以下步骤处理:步骤(6.1),用毕奥萨法尔定律积分得到负载内的磁感应强度分布BB=μ4πΣJiΔwΔl×(r-r)(r-r)3]]>其中Δw,Δl分别为宽度方向及长度方向剖分尺寸;步骤(6.2),根据矢量位计算得到负载内涡流损耗功率Psample:Rsample=σ∫∫∫V|E(r)|2dv=σω2∫∫∫V|A(r)|2dv其中矢量位A为:A(r)=μ4πΣJΔwΔl|r-r|]]>其中Δw,Δl分别为宽度方向及长度方向剖分尺寸;步骤(7),按下式计算所述RF线圈的信噪比SNRSNR=BReff]]>其中Reff为线圈的等效噪声电阻,所述Reff=Rcoil+Rsample,其中Rcoil为线圈自电阻,Rsample为涡流损耗电阻:Rcoil=Σi=1Nsi|Ji|2σI2]]>Rsample=PsampleI2]]>其中N为网格剖分数,I为导体内射频电流强度。
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