[发明专利]基于轴向研磨保偏光纤光栅的微位移检测方法及装置无效
| 申请号： | 200910235380.6 | 申请日： | 2009-10-13 |
| 公开（公告）号： | CN101696874A | 公开（公告）日： | 2010-04-21 |
| 发明（设计）人： | 裴丽;李卓轩;宁提纲;高嵩;祁春慧;赵瑞峰 | 申请（专利权）人： | 北京交通大学 |
| 主分类号： | G01B11/02 | 分类号： | G01B11/02 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 100044 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种基于轴向研磨保偏光纤光栅的微位移检测方法及装置，其宽带光源(10)与耦合器的第一端(1)连，耦合器的第二端(2)与保偏光纤光栅(40)的一端连，耦合器的第三端(3)与光谱仪(60)输入端连；保偏光纤光栅置于放置光纤用的微晶玻璃(50)的V型刻槽中，并粘贴其上；定位基准块(51)放置在光纤放置用微晶玻璃的一侧，固定在底板(52)上；研磨块(36)置保偏光纤光栅的正上方。启动研磨机对保偏光纤光栅进行研磨，当研磨块接触到定位基准块时，研磨停止；利用光谱仪(60)对保偏光纤光栅(40)双反射光谱的中心波长差进行记录；用计算机处理并显示结果。最终的位移测量精度为0.01μm。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 轴向 研磨 偏光 光栅 位移 检测 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种基于轴向研磨保偏光纤光栅的微位移检测装置，其特征是：该装置包括，宽带光源(10)、耦合器(20)、光纤研磨机(30)、保偏光纤光栅(40)、保偏光纤(41)、放置光纤用的微晶玻璃(50)、定位基准块(51)、底板(52)、光谱仪(60)；所述宽带光源(10)与耦合器的第一端(1)连接，耦合器的第二端(2)与保偏光纤光栅(40)的一端连接，耦合器的第三端(3)与光谱仪(60)的输入端连接；保偏光纤光栅(40)置于放置光纤用的微晶玻璃(50)的V型刻槽中，并粘贴在V型刻槽壁上；将定位基准块(51)放置在光纤放置用微晶玻璃(50)的前侧或后侧，固定在底板(52)上；研磨块(36)置于保偏光纤光栅(40)的正上方，研磨块(36)与保偏光纤光栅(40)不接触。
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