[发明专利]一种制备具有连续纳米孔道的聚合物薄膜的方法有效

专利信息
申请号: 200910233405.9 申请日: 2009-10-29
公开(公告)号: CN101704957A 公开(公告)日: 2010-05-12
发明(设计)人: 汪勇;范益群;邢卫红 申请(专利权)人: 南京工业大学
主分类号: C08J5/18 分类号: C08J5/18;C08J9/28;C08L53/00
代理公司: 南京天华专利代理有限责任公司 32218 代理人: 徐冬涛;袁正英
地址: 210009 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及一种具有连续纳米孔道的聚合物薄膜的制备方法该方法包括以下步骤:配制嵌段共聚物溶液,嵌段共聚物由嵌段A和嵌段B组成;将配制好的嵌段共聚物溶液涂在基底上,溶剂挥发成膜;将涂有聚合物薄膜的基底浸入对嵌段共聚物的一个嵌段有选择性溶胀作用的溶剂中;将涂有聚合物薄膜的基底从溶剂中取出,干燥后,得到具有连续孔道的聚合物薄膜。该方法不涉及到化学反应,方便可控,步骤简单,可以大面积制备多孔聚合物薄膜,具有良好的大规模生产前景。
搜索关键词: 一种 制备 具有 连续 纳米 孔道 聚合物 薄膜 方法
【主权项】:
一种制备具有连续纳米孔道聚合物薄膜的方法,其具体步骤如下:1)将嵌段共聚物溶解在溶剂中,配制嵌段共聚物溶液;2)将配制好的嵌段共聚物溶液涂在基底上干燥成膜;3)将涂有聚合物薄膜的基底在选择性溶剂中浸泡处理;4)将浸泡在选择性溶剂中的涂有聚合物薄膜的基底从溶剂中取出,干燥得到具有连续孔道的聚合物薄膜。
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