[发明专利]阵列基板及其制造方法有效
| 申请号： | 200910217534.9 | 申请日： | 2009-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN102116977A | 公开（公告）日： | 2011-07-06 |
| 发明（设计）人： | 秦纬 | 申请（专利权）人： | 北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1362 | 分类号： | G02F1/1362;H01L23/528;H01L21/768 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 刘芳 |
| 地址： | 100176 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种阵列基板及其制造方法。该阵列基板包括：基板；第一金属层图形，形成于所述基板之上，所述第一金属层图形的端面呈阶梯结构；保护层，形成于所述第一金属层图形之上；第二金属层图形，形成于所述保护层之上。本发明实施例的阵列基板中，第一金属层图形的端面呈阶梯结构，减少了第一金属层图形的端面的端差，从而有效避免由于第一金属层图形的端面的端差过大而导致的第二金属层图形出现断裂的情况。 | ||
| 搜索关键词： | 阵列 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种阵列基板，其特征在于，包括：基板；第一金属层图形，形成于所述基板之上，所述第一金属层图形的端面呈阶梯结构；保护层，形成于所述第一金属层图形之上；第二金属层图形，形成于所述保护层之上。
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