[发明专利]一种TDI生产中循环溶剂的净化方法无效

专利信息
申请号: 200910210659.9 申请日: 2009-11-05
公开(公告)号: CN101698652A 公开(公告)日: 2010-04-28
发明(设计)人: 谈明传;梁睿渊;毕荣山;耿天奇 申请(专利权)人: 甘肃银达化工有限公司;青岛科技大学
主分类号: C07C265/14 分类号: C07C265/14;C07C263/10
代理公司: 中国兵器工业集团公司专利中心 11011 代理人: 曾敬
地址: 730900 *** 国省代码: 甘肃;62
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摘要: 发明涉及一种TDI生产中循环溶剂的净化方法,具体涉及重溶剂光气法生产甲苯二异氰酸酯时,循环溶剂DEIP中若有夹带TDI、苄位氯代甲苯二异氰酸酯(Cl-TDI)、m-乙酯苯甲酰氯(CBC)等含-NCO基团杂质的异常情况发生时,-NCO基团杂质将会在光化工序中与TDA、光气发生反应,降低了TDI的产率,生成脲类和酰胺类的残渣物质,导致阻塞管道及设备而需停止生产清理阻塞物等问题,本发明采用外加脱除剂(聚乙二醇(PEG)或无水乙醇(C2H5OH))与-NCO基团杂质反应的处理方法,利用精馏对生成重组分与DEIP进行分离,在塔顶得到纯净DEIP返回循环溶剂储槽,塔釜得到被反应掉的NCO组分和原有的重组分去残渣脱除系统,保证装置的顺利运行。
搜索关键词: 一种 tdi 生产 循环 溶剂 净化 方法
【主权项】:
一种TDI生产中循环溶剂的净化方法,其特征是采用外加脱除剂与-NCO基团杂质反应,利用精馏对生成重组分与DEIP进行分离,在塔顶得到纯净DEIP返回循环溶剂储槽,塔釜得到的被反应掉的NCO组分和原有的重组分去残渣脱除系统,保证装置的顺利运行;包括:a)第一步是外加脱除剂与-NCO基团杂质反应工序,TDI精馏塔釜出来的含-NCO基团杂质的DEIP由上料泵(1)打入DEIP一级净化反应器(2)中,启动搅拌,利用热媒对一级净化反应器(2)加热到190~200℃,随后,按一定的比例加入脱除剂到反应器(2)中混合,选择的脱除剂若挥发,由冷凝器(5)冷凝下来返回反应器(2)中,脱除剂与DEIP中-NCO基团杂质进行反应,反应停留时间10~60分钟,利用位差将反应物料从一级净化反应器(2)自流入二级净化反应器(3),启动搅拌,利用热媒对二级净化反应器(3)加热到190~200℃,停留时间10~60分钟,物料反应完全,启动出料泵(4)将反应物料打入DEIP净化塔(6)中部;b)第二步是DEIP精馏分离工序,启动真空泵(13),控制真空度为0.070~O.089MPa,用热媒将DEIP净化塔(6)塔底再沸器(12)温度升到145~175℃时,启动釜液泵(10)强制循环DEIP净化塔(6)塔釜物料,釜液中的固体物被釜液过滤器(11)拦截,启动塔顶冷凝器(7),冷凝下来的液相为纯净的DEIP,收集在回流罐(8)中,启动回流泵(9)出料,一部分回流DEIP净化塔(6)塔顶满足操作条件,另一部分引出去DEIP循环溶剂储槽循环使用,DEIP净化塔(6)釜液及固体物定期从釜液过滤器(11)排出去残渣脱除系统进行处理。
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