[发明专利]从粗HCl气体除去CO的方法和使用所得净化气体的HCl氧化工艺有效
| 申请号： | 200910206390.7 | 申请日： | 2009-10-15 |
| 公开（公告）号： | CN101927980A | 公开（公告）日： | 2010-12-29 |
| 发明（设计）人： | A·索普;K·沃纳 | 申请（专利权）人： | 拜尔材料科学股份公司 |
| 主分类号： | C01B7/07 | 分类号： | C01B7/07;C01B7/04 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 刘锴;韦欣华 |
| 地址： | 德国莱*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种从粗HCl气体中除去含有一氧化碳的气体的方法，该粗HCl气体至少包含一氧化碳，具有或者不具有氮气，所述的方法至少由下面的加工步骤组成：a)在压缩阶段将该粗HCl气体压缩到高压；b)冷却该压缩的粗HCl气体来液化氯化氢，留下含有一氧化碳的气体；c)从液化的氯化氢中除去含有一氧化碳的气体；d)蒸发该液体氯化氢，并且将它作为净化的HCl气体提供给HCl氧化加工，并且本发明还涉及一种与这种方法相联系的HCl氧化加工。 | ||
| 搜索关键词： | hcl 气体 除去 co 方法 使用 所得 净化 氧化 工艺 | ||
【主权项】：
一种方法，其包含：(a)提供包含氯化氢和一氧化碳的粗HCl气体；(b)压缩该粗HCl气体来形成压缩的粗HCl气体；(c)冷却该压缩的粗HCl气体来形成液化的氯化氢和含有一氧化碳的气体；(d)分离该液化的氯化氢和含有一氧化碳的气体；(e)蒸发该液化的氯化氢来形成净化的HCl气体；和(f)将该净化的HCl气体供给到HCl氧化加工。
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