[发明专利]用于纳米压印的滚筒模仁的制造方法无效
| 申请号： | 200910205373.1 | 申请日： | 2009-10-21 |
| 公开（公告）号： | CN102043330A | 公开（公告）日： | 2011-05-04 |
| 发明（设计）人： | 杨锦添;郑宗达;陈荣波;许明芳;黄俊杰;朱朝居;黄得瑞 | 申请（专利权）人： | 财团法人工业技术研究院 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 陈小雯 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明公开一种用于纳米压印的滚筒模仁的制造方法，其包括：提供一滚轴基板，其中该滚轴基板为一圆柱体且具有一曲面；形成一无机光致抗蚀剂层于该滚轴基板的该曲面上；使用一激光曝光装置，以聚焦的激光照射该无机光致抗蚀剂层，使得曝光区域的该无机光致抗蚀剂层产生相转变，以及移除相转变区域的该无机光致抗蚀剂层，以于该滚轴基板上形成一纳米图案。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 纳米 压印 滚筒 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种用于纳米压印的滚筒模仁的制造方法，包括：提供一滚轴基板，其中该滚轴基板为一圆柱体且具有一曲面；形成一无机光致抗蚀剂层在该滚轴基板的该曲面上；使用一激光曝光装置，以聚焦的激光照射该无机光致抗蚀剂层，使得曝光区域的该无机光致抗蚀剂层产生相转变；以及移除相转变区域的该无机光致抗蚀剂层，以在该滚轴基板上形成一纳米图案。
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