[发明专利]一种化学机械抛光液有效
| 申请号： | 200910201381.9 | 申请日： | 2009-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN102101977A | 公开（公告）日： | 2011-06-22 |
| 发明（设计）人： | 荆建芬;蔡鑫元 | 申请（专利权）人： | 安集微电子(上海)有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C23F3/03 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张江高*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明揭示了一种新的用于金属抛光的化学机械抛光液。这种抛光液可以通过下列物质组合在一起而形成：研磨颗粒、络合剂及腐蚀抑制剂。使用本发明的浆料的可以降低金属的去除速率，防止金属材料的整体和局部腐蚀，使缺陷明显下降，提高表面质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
一种化学机械抛光液，其包含：研磨颗粒、络合剂及腐蚀抑制剂。
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