[发明专利]用于化学机械抛光工艺中对抛光参数进行动态调整的方法有效
| 申请号： | 200910197948.X | 申请日： | 2009-10-30 |
| 公开（公告）号： | CN102049734A | 公开（公告）日： | 2011-05-11 |
| 发明（设计）人： | 葛军 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | B24B51/00 | 分类号： | B24B51/00;H01L21/306 |
| 代理公司： | 北京市磐华律师事务所 11336 | 代理人： | 董巍;顾珊 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于化学机械抛光工艺中对抛光参数进行动态调整的方法，所述方法包括下列步骤：在化学机械抛光设备中选择n个易磨损部件，其中n为大于1的正整数；对于n个易磨损部件中的每个易磨损部件，分别将第k个易磨损部件的使用寿命划分为m(k)个使用时间阶段tk，m(k)，其中k和mk为大于0的正整数，1≤k≤n；定义X组抛光参数，其中每一组抛光参数对应于全部n个易磨损设备各自在任一使用时间阶段tk，m(k)时的状态，其中X＝m(1)×m(2)×……×m(n)；在所述化学机械抛光设备的操作过程中，根据所述每个易磨损部件所在的各自使用时间阶段，选取相应的该组抛光参数用来调整所述化学机械抛光设备。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 化学 机械抛光 工艺 抛光 参数 进行 动态 调整 方法 | ||
【主权项】：
一种用于化学机械抛光工艺中对抛光参数进行动态调整的方法，所述方法包括下列步骤：在化学机械抛光设备中选择n个易磨损部件，其中n为大于1的正整数；对于n个易磨损部件中的每个易磨损部件，分别将第k个易磨损部件的使用寿命划分为m(k)个使用时间阶段tk，m(k)，其中k和mk为大于0的正整数，1≤k≤n；定义X组抛光参数，其中每一组抛光参数对应于全部n个易磨损设备各自在任一使用时间阶段tk，m(k)时的状态，其中X＝m(1)×m(2)×……×m(n)；在所述化学机械抛光设备的操作过程中，根据所述每个易磨损部件所在的各自使用时间阶段，选取相应的该组抛光参数用来调整所述化学机械抛光设备。
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