[发明专利]靶材及设定靶材元素配比方法有效
| 申请号： | 200910196207.X | 申请日： | 2009-09-23 |
| 公开（公告）号： | CN102021526A | 公开（公告）日： | 2011-04-20 |
| 发明（设计）人： | 卢炯平;杨瑞鹏;孔祥涛;聂佳相 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/54 | 分类号： | C23C14/54;C23C14/34;C23C14/14 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 李丽 |
| 地址： | 201203 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种靶材及设定靶材元素配比方法，其中设定靶材元素配比方法包括：提供第一靶材，所述第一靶材包括第一元素和第二元素；采用所述第一靶材在衬底上形成薄膜；测量在衬底不同区域的所述薄膜的元素配比数据；根据所述衬底不同区域的所述薄膜的元素配比数据，设定与衬底区域对应的靶材区域的元素配比，形成第二靶材。本发明提供的设定靶材元素配比方法和靶材能够降低靶材中贵重金属的含量，降低靶材的成本，并且能够提高靶材形成的薄膜的元素均一性。 | ||
| 搜索关键词： | 设定 元素 配比 方法 | ||
【主权项】：
一种设定靶材元素配比方法，包括如下步骤：提供第一靶材，所述第一靶材包括第一元素和第二元素；采用所述第一靶材在衬底上形成薄膜；测量在衬底不同区域的所述薄膜的元素配比数据；根据所述衬底不同区域的所述薄膜的元素配比数据，设定与衬底区域对应的靶材区域的元素配比，形成第二靶材。
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