[发明专利]一种脱模剂的制备方法有效
| 申请号： | 200910190333.4 | 申请日： | 2009-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN101671354A | 公开（公告）日： | 2010-03-17 |
| 发明（设计）人： | 魏伟 | 申请（专利权）人： | 深圳超多维光电子有限公司 |
| 主分类号： | C07F7/04 | 分类号： | C07F7/04;C07F7/18;C08G77/24;C08G77/02;C08G77/06;B29C33/62 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518000广东省深圳市福田区*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种脱膜剂的制备方法，采用硅烷偶联剂单体经水解缩合反应进行制备。所述硅烷偶联剂单体可以为4-甲基-(全氟己基乙基)丙基三甲氧基硅烷，还可以为正硅酸乙酯，将经过本发明方法制备的脱模剂改性过的模具用在微透镜阵列光栅的制作上，制得的光栅表面形貌好，不会出现发毛、橘皮、水纹、透光不均匀等，能够满足生产高质量光栅的要求。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 脱模剂 制备 方法 | ||
【主权项】：
1、一种脱膜剂的制备方法，其特征在于，采用硅烷偶联剂单体经水解缩合反应进行制备。
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