[发明专利]半导体粒子的制造方法无效

专利信息
申请号: 200910179170.X 申请日: 2009-09-29
公开(公告)号: CN101714590A 公开(公告)日: 2010-05-26
发明(设计)人: 室园干男;大岛洋司;中村俊之;明石义弘 申请(专利权)人: 珂琳21风险投资株式会社
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;B81C5/00;B81C1/00
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 陈建全
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 一种半导体粒子的制造方法,其包括以下工序:对含有半导体粉末的原料实施造粒操作,从而制造规定质量的细粒的工序;将所述细粒加热以使所述细粒内的半导体粉末熔融,并使熔融的各粉末熔合,由此形成球状的熔融体的工序;以及将所述球状的熔融体冷却以使其凝固,由此制造球状的半导体粒子的工序。所述细粒优选含有将半导体粉末相互间结合的粘结剂。当细粒含有粘结剂时,优选在为熔融半导体粉末而进行的加热之前,进行预加热以从细粒中除去粘结剂。
搜索关键词: 半导体 粒子 制造 方法
【主权项】:
一种半导体粒子的制造方法,其包括以下工序:(i)对含有半导体粉末的原料实施造粒操作,从而制造规定质量的细粒的工序;(ii)将所述细粒加热以使所述细粒内的半导体粉末熔融,并使熔融的各粉末熔合,由此形成球状的熔融体的工序;以及(iii)将所述球状的熔融体冷却以使其凝固,由此制造球状的半导体粒子的工序。
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