[发明专利]接近式曝光装置、其掩模搬送方法及面板基板的制造方法无效
申请号: | 200910178873.0 | 申请日: | 2009-10-09 |
公开(公告)号: | CN101738870A | 公开(公告)日: | 2010-06-16 |
发明(设计)人: | 森顺一;松山胜章;樋川博志 | 申请(专利权)人: | 株式会社日立高科技 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;H01L21/68 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人: | 寿宁;张华辉 |
地址: | 日本东京港区*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明可精度良好地定位比基板小的掩模而将其安装到掩模架上。将具有从夹盘10内部上升的上顶销12及使上顶销12上下移动的马达11的多个上顶销单元设置在夹盘10上。利用掩模搬送装置将掩模2搬入到夹盘10中,并通过上顶销12而从掩模搬送装置接收掩模2。利用移动机构53来移动第一图像获取装置52,并利用第一图像获取装置52而获取掩模2的位置检测用标记的图像。对第一图像获取装置52的图像信号进行处理,检测掩模2的位置,并根据已检测出的掩模2的位置,利用X平台5、Y平台7、以及θ平台8来移动夹盘10,进行掩模2的定位,将掩模2通过上顶销12而安装到掩模架20上。 | ||
搜索关键词: | 接近 曝光 装置 掩模搬送 方法 面板 制造 | ||
【主权项】:
一种接近式曝光装置,包括:搭载基板的夹盘、保持掩模的掩模架、以及移动所述夹盘的平台,在掩模和基板之间设有微小的间隙,以将掩模的图案转印到基板,该接近式曝光装置的特征在于包括:对所述平台的移动加以控制的第一控制机构;将掩模搬入到所述夹盘的掩模搬送装置;多个上顶销单元,具有从所述夹盘内部上升的上顶销及使该上顶销上下移动的马达,并安装在所述夹盘上;第一图像获取装置,获取设置在掩模上的位置检测用标记的图像,并输出图像信号;使所述第一图像获取装置移动的移动机构;以及图像处理装置,对所述第一图像获取装置所输出的图像信号进行处理,检测掩模的位置,且所述多个上顶销单元通过所述上顶销而从所述掩模搬送装置接收掩模;所述第一控制机构根据所述图像处理装置对所述第一图像获取装置的图像信号进行处理而检测出的掩模的位置,利用所述平台来移动所述夹盘,以进行掩模的定位;所述多个上顶销单元通过所述上顶销而将掩模安装到所述掩模架上。
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